Китай представил свою первую отечественную электронно-лучевую литографическую машину для коммерческого использования, получившую название «Сиши» (Xizhi) — в честь древнекитайского каллиграфа Ван Сиши. Эта разработка, выполненная в лаборатории квантовых технологий при Чжэцзянском университете в Ханчжоу, знаменует собой важный технологический рубеж для индустрии полупроводников в стране.
«Сиши» использует сфокусированный электронный луч для «написания» микросхемных схем на кремниевых пластинах с точностью позиционирования 0,6 нанометра и минимальной шириной линий порядка 8 нанометров. Такая точность позволяет создавать сложные и мелкие узоры, необходимые для разработки новых поколений квантовых и других передовых чипов. В отличие от традиционной фотолитографии, где требуется дорогостоящая маска, e-beam литография дает большую гибкость в экспериментальных фазах производства, позволяя быстро вносить изменения в дизайн — это очень важно для этапов отладки и тестирования.
Несмотря на то, что электронно-лучевая литография пока не подходит для массового производства чипов, столь необходимого в промышленном масштабе, для Китая эта машина становится стратегически важным мостом в условиях санкций и ограничений на импорт передового оборудования. Из-за запретов со стороны США и Нидерландов ведущие западные производители, такие как нидерландская ASML, не могут поставлять Китаю современные экстримультрафиолетовые (EUV) литографические установки, которые необходимы для изготовления чипов с техпроцессом ниже 7 нм.
Создание «Сиши» — важный шаг в наращивании технологической независимости Китая. Его появление позволит китайским исследовательским институтам и производителям серьезно нарастить собственные компетенции в ключевой сфере производства полупроводников. Применение машины выходит далеко за пределы квантовых технологий, открывая перспективы и для развития искусственного интеллекта, фотоники и других высокотехнологичных отраслей.
Уже ведутся переговоры с рядом компаний и научных центров, заинтересованных в применении этой отечественной установки, которая при этом имеет и конкурентоспособную цену по сравнению с зарубежными аналогами. Это позволит расширить локализованное производство и сократить зависимость от внешних поставщиков, что крайне важно в условиях продолжающихся санкций.
Таким образом, запуск первой коммерческой электронно-лучевой литографической машины демонстрирует значительный прогресс Китая в полупроводниковой сфере, где точность и инновации играют решающую роль. Внедрение «Сиши» откроет путь к новым технологическим достижениям и усилению позиций Китая в мировой гонке за лидерство в производстве передовых чипов. Этот прорыв станет важной вехой в стратегии технологической независимости страны и формировании собственной экосистемы микроэлектроники.
